VPO-300快速退火爐 快速退火爐（RTP/RTA）是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。快速退火爐可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。VPO-300是一款很有特點的快速退火爐，有非常大的退火空間，適合12英寸晶圓或300mm x 300mm大尺寸樣品的熱處理。

RTP-150快速退火爐 升溫速度：150攝氏度每秒，可以用于大6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品熱處理。RTP-150可以支持惰性氣體保護、低真空或高真空熱處理。

RTP-100快速退火爐 升溫速度：150攝氏度每秒，可以用于大4英寸晶圓或者100mm x 100mm尺寸樣品熱處理。RTP-100可以支持真空或高真空熱處理。

RTP-1200快速退火爐 該儀器：尺寸小巧，使用風冷、無須水冷，電流要求不高（3安培），性價比高，使用方便，非常適合科研院所的科研使用。